wafer等離子清洗機廠家：誠峰智造
噴射型AP等離子處理系統CRF-APO-DP1010-A
名稱（Name）
噴射型AP等離子處理系統
型號（Model）
CRF-APO-DP1010-A
電源（Power supply）
220V/AC,50/60Hz
功率（Power）
800W/25KHz
處理高度（Processing height）
5-15mm
處理寬幅（Processing width）
1-6mm（Option）
內部控制模式（Internal control mode）
模擬控制
工作氣體（Gas）
Compressed Air （0.4mpa）
產品特點：可選配多種類型噴嘴，使用于不同場合，滿足各種不同產品和處理環境；
設備尺寸小巧，方便攜帶和移動，節省客戶使用空間；
可In-Line式安裝于客戶設備產線中，減少客戶投入成本；
使用壽命長，保養維修成本低，便于客戶成本控制；
應用范圍：主要應用于電子行業的手機殼印刷、涂覆、點膠等前處理，手機屏幕的表面處理；國防工業的航空航天電連接器表面清洗；通用行業的絲網印刷、轉移印刷前處理等。
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